摘要：針對煤氣化裝置低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)水的問題，對存在進(jìn)水隱患的設(shè)備、管線進(jìn)行排查，分析低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)水的原因：事故燒嘴冷卻水槽(V2)底部出水管線投用伴熱后，閥門密封性能降低，出現(xiàn)內(nèi)漏現(xiàn)象，導(dǎo)致V2中水滿后進(jìn)入氮?dú)馑娇偣埽沟獨(dú)饴饵c(diǎn)升高；進(jìn)入事故火炬的低壓氮?dú)饬髁看笄姨幱诹鲃?dòng)狀態(tài)，膨脹吸熱引起氮?dú)鉁囟冉档?，?dǎo)致過飽和的氮?dú)饽Y(jié)出冷凝水。通過切斷進(jìn)入氮?dú)夤芫W(wǎng)水源、氮?dú)馑娇偣芗訉?dǎo)淋閥、增加氮?dú)馀欧帕康却胧M(jìn)水氮?dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)行處理有效縮短了進(jìn)水氮?dú)夤芫W(wǎng)的干燥時(shí)間；同時(shí)，對在線分析儀用氮?dú)夤芫€予以改造，徹底消除了低點(diǎn)積水引起工藝氣在線分析儀故障的隱患。并指出，V2上沒有遠(yuǎn)傳液位計(jì)的設(shè)計(jì)缺陷使得V2液位不能實(shí)時(shí)監(jiān)控，存在較大的安全隱患。

在煤化工領(lǐng)域，氮?dú)獬３Ｓ糜谘b置中易燃易爆、有毒有害可燃性氣體的置換，或作為設(shè)備密封、保壓和儀表檢測元件的保護(hù)及動(dòng)力氣源，對其含水量有較嚴(yán)格的要求，一般要求其含水量控制在2×10－6以下。若運(yùn)行過程中發(fā)生了氮?dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)水，會給全廠的安全生產(chǎn)造成威脅，冬季時(shí)管網(wǎng)甚至?xí)霈F(xiàn)結(jié)冰堵塞現(xiàn)象，導(dǎo)致氮?dú)夤芫W(wǎng)癱瘓；當(dāng)遇到突發(fā)情況系統(tǒng)需停車時(shí)，氮?dú)鉄o法用于置換等工藝處理，更是會造成較大的安全隱患，甚至?xí)鹪O(shè)備損壞、著火、爆炸等惡性事故。因此，分析并解決氮?dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)水的問題具有重要的意義。

2.3.1高壓閃蒸罐上的低壓氮?dú)夤芫€排查

連接高壓閃蒸罐的低壓氮?dú)夤芫€上設(shè)計(jì)有2道截止閥，全部處于關(guān)閉狀態(tài)，閥體及閥后低壓氮?dú)夤芫€溫度為2 ℃(高于－6℃的環(huán)境溫度)，遠(yuǎn)低于高壓閃蒸罐內(nèi)160℃的介質(zhì)溫度，若此閥門有輕微的內(nèi)漏，氮?dú)夤芫€內(nèi)就會有CO、H2、NH3等可燃?xì)怏w，在X4閥后取樣檢測，結(jié)果顯示，氮?dú)夤芫€內(nèi)沒有這些可燃?xì)怏w。另外，高壓閃蒸罐上低壓氮?dú)夤芫€入口位于高壓閃蒸罐的液面下方，若有滲漏，則氮?dú)夤芫€內(nèi)的水會有顏色，而從X4閥后排出的水無色無味、澄清透明，可以判斷高壓閃蒸罐內(nèi)的黑水或高閃氣(含水量為99%)未進(jìn)入低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)，閥體及閥后氮?dú)夤芫€的溫度高于環(huán)境溫度是由高壓閃蒸罐的熱輻射引起的。

2.3.2 V2的低壓氮?dú)夤芫€排查

在事故燒嘴冷卻水槽(V2)內(nèi)，為保持事故狀態(tài)下燒嘴冷卻水的流量，V2頂部用氮?dú)饧訅褐?.45MPa，氮?dú)夤艿廊肟谖挥赩2頂部，現(xiàn)場磁翻板液位計(jì)顯示V2液位為2.3m(V2罐體總高2.6m)，頂部安全閥SV1的旁路閥、V2補(bǔ)水閥X7及其排水閥XV1、X6均處于關(guān)閉狀態(tài)，X5處于1/2開度狀態(tài)，所以V2壓力與氮?dú)夤芫W(wǎng)壓力相同。由于V2位于煤氣化裝置的*高點(diǎn)，若V2液位滿，水會在其重力作用下經(jīng)止回閥(內(nèi)漏)和X5閥流入支管1，進(jìn)而流入氮?dú)馑娇偣埽娇偣芘c各支管呈豎直U形布局，水平總管位于U形布局低點(diǎn)處，因此氮?dú)馑娇偣艹蔀榉e水管，進(jìn)而導(dǎo)致水平總管內(nèi)的低壓氮?dú)饴饵c(diǎn)升高(2016年1月30日檢測氮?dú)饴饵c(diǎn)為－14.8℃)，含水量較大。

關(guān)閉X5閥并斷開X5閥后法蘭發(fā)現(xiàn)，V2液位已滿，有大量水流出，之后以0.03m³/h恒定的流量流出，一方面表明磁翻板液位計(jì)LG1已壞，顯示的V2液位數(shù)據(jù)失真；另一方面也體現(xiàn)出了V2沒有設(shè)計(jì)遠(yuǎn)傳液位計(jì)所帶來的安全隱患。于是打開US2、US3、US4、US5閥，均有少量水流出，且水量依次減小；打開X3閥，沒有水流出，表明氮?dú)馑娇偣軆?nèi)積水不多，不是水平總管內(nèi)充滿水后進(jìn)入到支管2中的。

V2與工藝氣在線分析儀分別位于支管1和支管2上，由于支管2頂部去事故火炬的氮?dú)馓幱诹鲃?dòng)狀態(tài)(流量在1900m³/h左右)，氮?dú)馑娇偣軆?nèi)的氮?dú)庠?管道內(nèi)壓力降較大，低壓氮?dú)馀蛎浳鼰嵋鸬獨(dú)鉁囟冉档?，?dǎo)致過飽和的氮?dú)饽Y(jié)出冷凝水，順著管壁流下來，積聚在各樓層公用工程站低點(diǎn)導(dǎo)淋處；此外，氮?dú)饬魉俅笠矔A帶一些小液滴，小液滴也會順著管壁流下積聚在每個(gè)低點(diǎn)導(dǎo)淋處。

打開US1，發(fā)現(xiàn)US1處管道已經(jīng)堵塞，沒有氮?dú)?、冷凝水排出，采?.7MPa蒸汽給US1加熱12h，也沒有水和氮?dú)馀懦?。分析認(rèn)為，這主要是由于US1位于支管2的*低點(diǎn)，因長期未使用，有大量管道銹渣積累，堵塞了US1處的氮?dú)夤艿?，使得X4處成為支管2的相對低點(diǎn)，水越積越多，*終經(jīng)X4進(jìn)入到工藝氣在線分析儀中。

在支管4的各樓層公用工程站低壓氮?dú)夤芫€低點(diǎn)導(dǎo)淋處未排出水，只有氮?dú)猓@主要是因?yàn)樵谥Ч?內(nèi)的低壓氮?dú)鉀]有流動(dòng)，無壓力降，氮?dú)饴饵c(diǎn)沒有升高，沒有形成過飽和氮?dú)?，故沒有凝結(jié)水產(chǎn)生。

3、處理措施

3.1切斷進(jìn)入氮?dú)夤芫W(wǎng)的水源

技改后低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)流程如圖1(含虛線部分)所示。X5閥被關(guān)閉，其閥后法蘭被斷開，徹底切斷進(jìn)入氮?dú)夤芫W(wǎng)的水源；X7閥后加盲板，以防止X7閥長期使用后密封性能降低而出現(xiàn)內(nèi)漏，并通過增大氮?dú)獾呐欧帕縼斫档偷獨(dú)夤芫W(wǎng)內(nèi)的含水量(2016年1月31日在X4閥后檢測氮?dú)饴饵c(diǎn)為－17.9℃，表明低壓氮?dú)庵兴拷档?，情況有所好轉(zhuǎn))。此外，更換閥門X6、XV1，維修磁翻板液位計(jì)LG1，并加強(qiáng)液位計(jì)的檢查維護(hù)。以上措施徹底消除了氮?dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)水的隱患。

3.2水平總管加導(dǎo)淋閥

由表2可以看出，2016年2月3日時(shí)X4閥后檢測氮?dú)饴饵c(diǎn)為－17.5℃，表明水平總管內(nèi)還存在水，通過加大氮?dú)馀欧帕繉Φ獨(dú)夤芫W(wǎng)進(jìn)行干燥，效果較明顯，但需要較長時(shí)間，于是采取在水平總管兩端分別增加導(dǎo)淋閥X1、X2的措施(見圖1中虛線所示部分)增大氮?dú)饬鲃?dòng)區(qū)域，以縮短干燥時(shí)間。打開X1、X2后排出約6m³的水，排完后X1、X2閥處均出現(xiàn)結(jié)冰堵塞現(xiàn)象，導(dǎo)致X1、X2閥處無氮?dú)馀懦觯砻鞯獨(dú)馑娇偣軆?nèi)可能已經(jīng)有冰存在。采用0.7MPa蒸汽對X1、X2閥進(jìn)行加熱除冰，X1、X2閥得以疏通。

2016年2月4日和2月5日在X4閥后檢測氮?dú)饴饵c(diǎn)，分別為－23.5℃和－24.2℃，表明氮?dú)夂坑兴档?，但與合格氮?dú)獾穆饵c(diǎn)相差還是較大，當(dāng)X4閥處排出的氮?dú)鉁囟?、壓力與空分裝置外送氮?dú)鉁囟?、壓力較接近時(shí)，其露點(diǎn)會較接近。

2016年2月6日在X1閥后檢測氮?dú)獾穆饵c(diǎn)為－3.4℃，水含量較X4閥后高，這可能是由于X1閥處氮?dú)馀欧帕枯^小，管內(nèi)冰的升華量與氮?dú)獾暮窟_(dá)到平衡，而支管2的氮?dú)馀欧帕枯^大，故含水量降低。這表明，需要長時(shí)間保持低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)較大的氮?dú)馀欧帕?，才能將氮?dú)飧稍镏梁细?露點(diǎn)降至－71.4℃)。

2016年2月14日在X4閥處檢測氮?dú)獾穆饵c(diǎn)為－71.4℃，與空分裝置外送氮?dú)獾穆饵c(diǎn)一樣，表明低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)中的水已經(jīng)完全排出。

3.3更改工藝氣在線分析儀用氮?dú)夤芫€

將工藝氣在線分析儀用氮?dú)庥稍瓘腦4閥后引出改為從X3閥后引出(見圖1中虛線所示部分)，同時(shí)在X3閥后進(jìn)工藝氣在線分析儀前的低點(diǎn)增加導(dǎo)淋，便于吹掃排氣或排水，從而徹底消除因X4閥位于低點(diǎn)易積水、引起工藝氣在線分析儀故障的隱患。

4、結(jié)論

(1) 通過對低壓氮?dú)夤芫W(wǎng)的分析、排查得知，V2出水閥門(X6、XV1)內(nèi)漏導(dǎo)致V2滿液后水經(jīng)X5閥進(jìn)入了低壓氮?dú)馑娇偣?，使氮?dú)饴饵c(diǎn)升高。

(2) 支管2中維持事故火炬壓力的氮?dú)饬髁看螅瑝毫递^大，低壓氮?dú)馀蛎浳鼰嵋鹌錅囟冉档停瑥亩惯^飽和氮?dú)饽Y(jié)出冷凝水，大量積聚的水進(jìn)入到工藝氣在線分析儀后使其發(fā)生了故障。(3) 通過采取切斷水源、增大氮?dú)馀欧帕?、水平總管上增加排放?dǎo)淋等措施，使進(jìn)水氮?dú)夤芫W(wǎng)的干燥時(shí)間得到縮短，氮?dú)饴饵c(diǎn)從*高－3.4℃降至－71.4℃的合格值。

(4) 對工藝氣在線分析儀用氮?dú)夤芫€進(jìn)行了改造，其進(jìn)水風(fēng)險(xiǎn)大大降低。

(5) V2上沒有遠(yuǎn)傳液位計(jì)的設(shè)計(jì)缺陷導(dǎo)致V2液位不能實(shí)時(shí)監(jiān)控，存在較大的安全隱患。